围绕正电子科学技术相关前沿技术和应用远景的会议主题,来自武汉大学、中国科学技术大学、四川大学、中国工程物理研究院、国防科技大学、和高能所,以及日本京都大学等国内外科研院校的专家分别作了大会特邀报告,探讨了正电子科学技术的创新构想、研究热点和应用前景。本次大会获得了国内外同行的广泛关注,来自中国原子能科学研究院、北京航天航空大学、绍兴文理学院、广西大学、中国地质大学(武汉)、武汉工程大学、南华大学、东北大学、兰州大学、近代物理研究所、天津大学、中南民族大学、华北水利水电大学、西安科技大学等院校或单位的约200余名专家和学者通过线上或线下方式参加了会议。同时,国家重点研发计划纳米科技专项“研究动量空间谱学的纳米结构和纳米薄膜的多参数正电子谱学表征新方法”课题组之间就执行情况、研究进展和存在的问题进行了交流和讨论,并提出了改进建议,明确了科研任务。
举办本次会议,时值赵忠尧先生诞辰120周年,具有特别意义:赵忠尧先生自1930年首次观察到正电子,一直引领并推动着正电子科学的发展,通过缅怀和纪念赵忠尧先生,青年科研工作者应主动发扬和继承老一辈科学家精神,积极专注正电子研究领域的前沿科学与技术,努力创新我国正电子科学与技术的研究水平。
魏龙发言
王宝义主持会议
会议现场
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