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ZnTi-LDHs纳米片的制备及其可见光抗菌性能研究

时间:2014年11月21日 点击数: 出处: 编辑:

  目前,寻找新型光催化剂以更好利用太阳能,对于能源利用、环境保护具有重要意义。TiO2基材料是应用最为广泛的光催化材料,但是其大的禁带宽度(3.2 eV)仅对紫外光有响应,无法利用可见光。人们通过各种方法引入Ti3+缺陷位,以降低TiO2基材料的带隙:高温真空热处理、化学气相沉积、高能量粒子轰击等。但是,这些方法一般需要繁琐、苛刻的合成条件,以及昂贵的设备等,限制了实际应用。因此,发展新方法、新技术以获得具有可见光响应的催化剂仍然是一个很大的挑战。 

  北京化工大学段雪教授、卫敏教授课题组与牛津大学Dermot O’Hare教授课题组合作,采用反相微乳液方法,制备了Ti3+掺杂的ZnTi水滑石纳米片(ZnTi-LDH-NS),在可见光照射下显示了很好的抗菌(大肠杆菌、金黄色葡萄球菌、酵母菌)性能。采用EXAFSXPSPL证实了LDHs纳米片表面的Ti3+缺陷位作为光生电子的受限位降低了电子-空穴的复合几率。该LDHs纳米片与纳米粒子(ZnTi-LDH-Bulk)相比,吸收光谱明显红移,有效拓展了可见光的利用率。该Ti3+活性位掺杂的可见光型LDHs催化剂在太阳能利用以及杀菌方面具有潜在的应用价值。相关工作发表于国际期刊J. Mater. Chem. B 2013, 1, 5988    

   1 (a) rutile TiO2, (b) ZnTi-LDH-Bulk, (c) ZnTi-LDH-NSTi K边的XANES结果(A)以及其k2傅里叶变换结果(B) 

  采用X射线近边吸收谱学(XANES)对几种含Ti化合物(rutile TiO2, ZnTi-LDH-Bulk, ZnTi-LDH-NS)的Ti K边进行了表征,如图1A所示。ZnTi-LDH-NSK边最大吸收峰在~4985 eV,相比ZnTi-LDH-Bulk rutile TiO2的峰值(~4987 eV)降低了2 eV,说明ZnTi-LDH-NSTi物种存在一种低氧化态的状态(Tid+, 3<d<4)。采用XPS技术进一步得到了证实。傅里叶变换的Ti KEXAFS(图1B)以及对应的Ti配位信息显示了ZnTi-LDH-NSTi的八面体配位扭曲度更大,结构无序度增加。 

  通过与北京同步辐射装置的合作,对LDHs光催化剂的微观结构进行了系统表征,深入揭示了材料的缺陷结构与可见光响应行为的内在关联。该手段是研究者深入认识纳米材料配位环境和缺陷结构的必要技术。

   发表文章: 

  Yufei Zhao, Chengle J. Wang, Wa Gao, Qiang Wang, Bei Li, Lirong Zheng, Min Wei,* David G. Evans, Xue Duan, Dermot O’Hare*, Synthesis and antimicrobial activity of ZnTi–layered double hydroxide nanosheets, J. Mater. Chem. B, 2013, 1, 5988. 

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