一种用于双spoke超导腔缓冲化学抛光装置
- 英文名称：A buffer chemical polishing apparatus for a double-spoke superconducting cavity
- 专利号：ZL 202321871779.5
- 专利类别：实用新型
- 专利证书号：
- 申请号：CN202321871779.5
- 发明人：戴劲; 周文中; 潘卫民; 贺斐思; 葛锐; 靳松; 常正则; 米正辉; 王子晗; 刘铭
- 其它发明人：
- 申请日期：2023-07-17
- 授权日期：2024-01-09
