精确测量低二次电子发射系数材料最薄贡献厚度的方法
- 英文名称：The invention relates to a method for accurately measuring the thinnest contribution thickness of a material with a low secondary electron emission coefficient
- 专利号：ZL 202210473415.5
- 专利类别：发明授权
- 专利证书号：
- 申请号：CN202210473415.5
- 发明人：王玉漫; 刘术林; 孙志嘉; 闫保军; 周健荣; 衡月昆; 蒋兴奋; 张斌婷; 韦雯露; 姚文静; 彭华兴; 谭金昊
- 其它发明人：
- 申请日期：2022-04-29
- 授权日期：2023-07-28
