一种高二次电子发射系数的双层薄膜及其制备方法
- 英文名称：The invention relates to a double-layer film with high secondary electron emission coefficient and a preparation method thereof
- 专利号：ZL 202011422644.1
- 专利类别：发明授权
- 专利证书号：
- 申请号：CN202011422644.1
- 发明人：闫保军; 王玉漫; 刘术林; 温凯乐; 张斌婷; 谷建雨; 姚文静
- 其它发明人：
- 申请日期：2020-12-08
- 授权日期：2022-07-08
