专利
您当前的位置:首页 > 科研成果 > 专利
硅掺杂铁基聚阴离子化合物及其制备方法和应用

  • 英文名称:Silicon-doped iron-based polyanionic compound as well as preparation method and application thereof
  • 专利号:ZL 202011434760.5
  • 专利类别:发明授权
  • 专利证书号:
  • 申请号:CN202011434760.5
  • 发明人:简宏希; 杨华; 夏元华; 孙光爱; 胡启威; 童剑飞; 傅世年; 简宏良; 黄宝琴; 王滔; 宋健锐; 黃允然; 梅龙伟; 鲁琪; 李常峰; 刘新智; 罗万居
  • 其它发明人:
  • 申请日期:2020-12-10
  • 授权日期:2021-10-01
地址:北京市918信箱 邮编:100049 电话:86-10-88235008 Email:ihep@ihep.ac.cn
中国科学院高能物理研究所 备案序号:京ICP备05002790号-1 文保网安备案号: 110402500050