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一种用于软X射线曝光的掩膜的制备方法
  • 英文名称：For soft X-ray exposure of the mask preparation method
  • 专利号：ZL 201510977465.7
  • 专利类别：发明授权
  • 专利证书号：
  • 申请号：CN201510977465.7
  • 发明人：刘静; 伊福廷; 张天冲; 王波; 张新帅; 孙钢杰; 王雨婷
  • 其它发明人：
  • 申请日期：2015-12-23
  • 授权日期：2019-06-14
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