一种利用离子束刻蚀技术抛光微结构侧壁的方法
- 英文名称：A technology using ion beam etching method for polishing the micro-structure side wall
- 专利号：ZL 201310439401.2
- 专利类别：发明授权
- 专利证书号：
- 申请号：CN201310439401.2
- 发明人：张天冲; 伊福廷; 王波; 刘静; 张新帅
- 其它发明人：
- 申请日期：2013-09-24
- 授权日期：2015-12-02
