粒子天体物理全国重点实验室大湾区先进探测技术研发基地 位于 广东省东莞市大朗镇中国散裂中子源园区（中国科学院高能物理研究所东莞研究部）D3实验厅，它是先进探测器专用的微加工、表征与封装平台，覆盖超高分辨的低温超导探测器、低温超导读出电子学、半导体探测器、X射线光学元件等多类探测核心部件，服务于粒子天体物理探测、原初引力波探测、高能同步辐射探测、暗物质与中微子测量等学科方向。

D3实验厅俯瞰图

D3实验厅外

D3实验厅内

超导器件微加工实验室

基地总投资已超过1亿元，总面积超过1000平，其中超导器件专用的微加工实验室占地超过450平，内有约20余台先进且专用的大型设备，具备6英寸及以下超导探测器的完整加工、表征、封装与测试能力。

仪器设备介绍

基地内设备包含光刻、薄膜淀积、刻蚀、表征、检测与封装等多个方面：

1）光刻：

图1. 光刻设备照

位于百级洁净间，当前包括1台无掩膜激光直写光刻机与2台双面接触式光刻机（如图1所示，另有1台激光直写与1台接触式光刻在采购中），目前支持8英寸及以下样品，极限光刻精度约0.5μm，套刻对准精度≤0.5μm。光刻配套设施位于湿法间，包括匀胶机、显影机、超声清洗机、热板等，均置于通风橱内；

2）薄膜淀积：

图2 薄膜沉积设备照片（部分）

位于千级洁净间与万级洁净间，包括6台磁控溅射机、1台电子束蒸发台、1台感应耦合等离子体-化学气相沉积设备（ICP-CVD），部分设备见图2，可以沉积绝缘介质与多种超导金属薄膜，比如氧化硅、氮化硅、Nb、Al、AlMn合金、Ti、Pd、Au、Pd、PdAu、、Ta、In、Mg等等。支持6英寸以及以下尺寸的镀膜工艺，薄膜厚度不均匀度均≤5%。另有3套电化学镀槽，位于湿法间的电化学台，可以开展电镀与阳极电镀；

3）刻蚀设备：

图3 刻蚀机照片（部分）

同样位于千级间和万级间，包括2台反应离子刻蚀机、2台感应耦合等离子体-反应离子刻蚀机、2台离子束刻蚀机与1台深硅刻蚀机（DRIE），用以刻蚀SiO2、SiNx、Si、Ti、Au、Nb及Nb氧化物、Al及Al氧化物等等多种材料。支持8英寸及以下尺寸的样品，薄膜刻蚀的不均匀度≤5%。多数设备具备终点检测模块，通常能够控制过刻时间≤5%；

4）表征、检测与封装：

图4. 封装、检测与封装等部分设备照片

设备主要位于万级间，包括应力仪、台阶仪、椭偏仪、共聚焦显微镜、自动键合机、化学机械抛光机（采购中）、探针台、低温探针台（最低温<5K）、划片机、X射线衍射仪、原子力显微镜、扫描电子显微镜等等。

基地可以为探测器微加工研发迭代提供了强有力的平台支撑，欢迎国内外研究人员开展合作交流。

联系人：高鹤

Email：hgao@ihep.ac.cn