Cryogenic Microwave Performance of Silicon Nitride and Amorphous Silicon Deposited Using Low-Temperature ICPCVD
- 联系作者：
- 刊物名称：JOURNAL OF LOW TEMPERATURE PHYSICS
- 所属学科：
- 作者：Sun, Jiamin; Shu, Shibo; Chai, Ye et al.
- 发表年度：2024
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