Simulation of bent Laue crystals for a high-energy X-ray monochromator with heat load consideration
- 联系作者:
- 刊物名称:JOURNAL OF APPLIED CRYSTALLOGRAPHY
- 所属学科:
- 作者:Wang, JY; Gao, LD; Li, M et al.
- 发表年度:2025
- 卷:
- 期:
- 页:
- 论文类别:
- 影响因子:
- 参与作者:
- DOI:
