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刘静


  • 类别: 副研究员
  • 研究方向:

      主要从事利用LIGA和光刻技术研制为光学元件。面向国家重要需求,研制“卡脖子”的微纳元件。 

  • 学历: 博士研究生
  • Email: liujing1987@ihep.ac.cn
  • 地址: 北京市石景山区玉泉路19号乙
  • 邮编: 100049
简历介绍

  刘静,博士,副研究员。2009-07毕业于中国科学技术大学物理学专业,获理学学士学位;2014-07毕业于中国科学院大学,获理学博士学位。2014-07进入中科院高能物理研究所多学科中心工作;2016-12,聘为中科院高能物理研究所多学科中心, 副研究员。 

承担科研项目情况

  1、用LIGA和光刻技术研制镍基、 SU8基X射线聚焦元件,为国内外光源提供可用聚焦元件。 

  2、用深硅刻蚀技术研制硅基Kinoform、光栅、波带片等光学元件。 

  3、氯化铯纳米岛自组装技术的应用研究。 

地址:北京市918信箱 邮编:100049 电话:86-10-88235008 Email:ihep@ihep.ac.cn
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